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X射線光電子能譜（XPS）
- 分類：測試服務
- 發布時間：2022-05-18 16:54:34
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概要:
詳情
1、項目介紹：
X射線光電子能譜儀利用X射線激發材料表面以下1納米到10納米范圍內所逸出光電子的結合能及數量，從而得到X射線光電子能譜來測定樣品中的元素構成及元素化學態和電子態。借助于離子束的剝蝕，X射線光電子能譜還能實現深度剖析，并廣泛應用于薄膜各層及界面分析。勝科納米擁有世界最高性能的XPS光電子能譜分析，發揮出在微小區域自動分析上的卓越功能。
擁有世界首創的掃描聚焦式X射線源，可對從最小7.5微米分析區域
獲得高靈敏度的分析數據結果
全自動化分析，可以輕松地對絕緣樣品達到自動中和效能
高性能深度分析，75x75mm樣品臺
全自動且高可靠度的測量，最佳能量分辨率低于0.48 eV（Ag3d5/2）
X射線光電子能譜 XPS主要應用于材料表面表征、元素化學價態、膜層深度測試；
?。?）材料表面表征
信號來源：表面下1-10nm.
利用0-1300eV 寬譜確定表面元素/污染物信息。
利用精掃確定表面元素/污染物含量。
能量分辨率：~0.48eV
檢測元素范圍：Li~U
檢測精度： 0.1~1.0 at%
因樣品在運輸過程中可能受空氣污染物影響，勝科納米將提供樣品原貌表面分析，以及5nm濺射清理后的表面分析
?。?）元素化學價態
利用元素精掃結果進行分峰分析，以獲得相應元素化學價態。
元素價態可用于分析：表面氧化，鹵素污染，化合物推定。
通過與深度結果綜合分析，可以用于推測氧化層厚度。
?。?）膜層深度測試
通過離子濺射剝離測試區域最外層，對樣品進行逐層分析。
濺射深度：1-500nm
濺射深度精度：1-10nm
濺射離子源：氬離子
可用于推測氧化層深度，摻雜含量及深度，分析膜層結構。
2、應用案例：
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0512-62800006
sales-cn@wintech-nano.com
